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       在半導(dǎo)體超純水制備中，紫外線(xiàn)（UV）TOC脫除技術(shù)是一項(xiàng)不可或缺的深度凈化工藝。它利用185nm紫外線(xiàn)激發(fā)產(chǎn)生的羥基自由基，將微量的有機(jī)物高效、無(wú)污染地氧化去除，并與后續(xù)的拋光混床離子交換器形成完美配合，共同保障出水的TOC穩(wěn)定低于1ppb，滿(mǎn)足最嚴(yán)苛的半導(dǎo)體制造需求。該技術(shù)的特點(diǎn)是高效、清潔、可靠，是現(xiàn)代超純水系統(tǒng)中拋光處理的標(biāo)桿技術(shù)。

       半導(dǎo)體工藝，如光刻、蝕刻、清洗等，對(duì)超純水的純度要求達(dá)到了近乎極致的程度。TOC代表水中有機(jī)物的總量，即使?jié)舛仍?/span>ppb（十億分之一）甚至ppt（萬(wàn)億分之一） 級(jí)別，也會(huì)造成嚴(yán)重問(wèn)題，此時(shí)就需要用到紫外線(xiàn)技術(shù)脫除TOC，這個(gè)技術(shù)并非簡(jiǎn)單的“殺菌”或“分解”，而是一個(gè)復(fù)雜的光化學(xué)氧化過(guò)程，其核心是 “紫外氧化”。

       我司生產(chǎn)的TOC脫除器能有效解決在半導(dǎo)體超純水中TOC過(guò)高的問(wèn)題，該項(xiàng)目采用我司8臺(tái)設(shè)備并聯(lián)的方式同時(shí)運(yùn)行，效果良好。